해당 이온빔기술장치는 중이온가속기를 기본장치로 한다.

사이클로트론과 이온통로, 그리고 고체와 반도체, 박막 등에서 나노물체를 제조할 수 있는 이온가속기 장치들을 포함하고 있다.

이온소스와 가속기를 가지고 1초에 1조개 이온입자들을 제조한다.

이 이온입자들이 고체와 반도체, 박막으로 침투해서 표면 성질을 변화시킨다.

대량의 나노구조물이 생성되는데, 크기는 10-9 m이다.

예를 들어 트랙의 박막에서 생기는 1 cm2당 트랙 수는 109개이다.

나노물체들은 차후 용도에 따라 다양한 모양으로 제조할 수 있다.

사이클로트론 DC-40을 가진 이 장치는 가속된 이온을 넓은 영역(wide range)에서 제조할 수 있는데, 유럽 최초의 초전도 ECR ion Source가 포함되어 있다.

□ 경쟁력

- 조종이 간편하다.

- 다수의 연구팀들이 장기간에 걸쳐 이용할 수 있다.

- 동종 가속장치들 중 세계에서 가장 높은 생산성을 자랑한다.

이온 타입에 따라 거의 3~10배 가량 생산성이 높다.

- 장기간에 걸쳐 안정적 작동을 한다 (차이는 25% 정도).

다른 동종 이온장치들에 비해 약 2배 정도 안정적이다.

동 장치는 실용성 면에서 나노테크놀로지에서 선구자라 할 수 있다.

동 장치는 이온 방사된 트랙 막은 정수나 플라즈마영동, 의료기구 소독 등에 이용될 수 있다.

또한 물리와 화학 분야에서도 이용될 수 있고, 인쇄회로기판(FPC= flexible printed circuit), 고주파모듈, 콘덴서 소재 개발에도 이용될 수 있다.

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